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武汉东湖综合保税区保税光电子产业园

建筑面积/ CFA

21.2万㎡

设计时间/ DESIGNED IN

2018

项目区域/ PROJECT AREA

武汉

项目地址/ Project Site

湖北省武汉市

项目类型/ Project Type

工业建筑

项目简介
/ Project Profile

项目位于东湖综合保税区东侧，10栋建筑按各自不同使用功能区分为两部分，1-4号楼主要是研发型厂房，5-10号楼为生产型厂房及仓储。

建筑外墙采用石材幕墙、玻璃幕墙加真石漆结合的构造形式，很好地体现了不同性质建筑的形象特点，并考虑到后期产业园使用过程中的耐久性及易维护性。

获奖情况
/ AWARDS

湖北省勘察设计成果评价一般工业建筑设计二等成果

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