青扬工业园


项目位于武汉市江夏区黄山大道以东,大桥新区一号路以南,建设用地面积394760㎡。

规划设计用地呈梯形,地势高低起伏,植被茂盛。整个园区分为综合办公区、生产区、研发区和职工宿舍区。整体形成“两轴、一环两心、两带四片”的景观结构。

“两轴”指纵向景观轴线和沿原有池塘方向主要集中的绿化轴线。“一环两心”指园区的主要环路和保留下来的山体绿化,也是区域组团的景观中心。“两带四片”指沿主环路形成的自然生态绿化带和穿越园区的纵向景观绿化带。


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